粗拋目的是去除磨光損傷層，這一階段應(yīng)具拋光速率，粗拋形成的表層損傷是次要的考慮，不過(guò)也應(yīng)當(dāng)盡可能?。黄浯问蔷珤?或稱(chēng)終拋)，其目的是去除粗拋產(chǎn)生的表層損傷，使拋光損有的拋光速率，粗拋形成的表層損傷是次要的考慮，不過(guò)也應(yīng)當(dāng)盡可能??；其次是精拋(或稱(chēng)終拋)，其目的是去除粗拋產(chǎn)生的表層損傷，使拋光損傷減到。磁力拋光機(jī)拋光時(shí)，試樣磨面與拋光盤(pán)應(yīng)平行并均勻地輕壓在拋光盤(pán)上，注意防止試樣飛出和因壓力太大而產(chǎn)生新磨痕。

　　同時(shí)，還應(yīng)使試樣自轉(zhuǎn)并沿轉(zhuǎn)盤(pán)半徑方向來(lái)回移動(dòng)，以避免拋光織物局部磨損太快在拋光過(guò)程中要不斷添加微粉懸浮液，使拋光織物保持一定濕度。濕度太大會(huì)減弱拋光的磨痕作用，使試樣中硬相呈現(xiàn)浮凸和鋼中非金屬夾雜物及鑄鐵中石墨相產(chǎn)生“曳尾”現(xiàn)象；濕度太小時(shí)，由于摩擦生熱會(huì)使試樣升溫，潤(rùn)滑作用減小，磨面失去光澤，甚至出現(xiàn)黑斑，輕合金則會(huì)拋傷表面。

　　磁力拋光機(jī)拋光分為兩個(gè)階段進(jìn)行。粗拋目標(biāo)是去除磨光毀傷層，這一階段應(yīng)具有的拋光速度，粗拋構(gòu)成的表層毀傷是的思索，但是也該當(dāng)盡能夠??；其次圓管磁力拋光機(jī)是精拋(或稱(chēng)終拋)，其目標(biāo)是去除粗拋發(fā)生的表層毀傷，使拋光毀傷減到。

　　磁力拋光機(jī)拋光時(shí)試樣磨面與拋光盤(pán)應(yīng)平行并平均地輕壓在拋光盤(pán)上，留意避免試樣飛出和因壓力太大而發(fā)生新磨痕。還還應(yīng)使試樣自轉(zhuǎn)并沿轉(zhuǎn)盤(pán)半徑偏向往返挪動(dòng)，以防止拋光織物部分磨損太快在拋光進(jìn)程中要不時(shí)添加拋光液或其它拋光助劑，圓管磁力拋光機(jī)使拋光織物堅(jiān)持必然濕度。濕度太大會(huì)削弱拋光的磨痕效果，使試樣中硬相出現(xiàn)浮凸和鋼中非金屬攙雜物及鑄鐵中石墨相發(fā)生“曳尾”景象；濕度太小時(shí)，因?yàn)槟Σ辽鸁釙?huì)使試樣升溫，光滑效果減小，磨面落空光澤，甚至呈現(xiàn)黑斑，輕合金則會(huì)拋傷外表，會(huì)呈現(xiàn)發(fā)黃的現(xiàn)像。

　　當(dāng)然，我們?yōu)榱诉_(dá)到粗拋的目的，要求轉(zhuǎn)盤(pán)轉(zhuǎn)速較低，不要超過(guò)600r/min；拋光時(shí)間應(yīng)當(dāng)比去掉劃痕所需的時(shí)間長(zhǎng)些，因?yàn)檫€要去掉變形層。粗拋后磨面光滑，但黯淡無(wú)光，在顯微鏡下觀察有均勻細(xì)致的磨痕，有待精拋。